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第191章 光刻机(4 / 6)

,日后在半导体制造领域非常关键的光刻机。

这也是进入这一行业的最好时期。

因为1988年的光刻机项目,还属于小众领域产品,技术要求也比较低。

日本尼康这家光学领域巨头,只是用了一些边角料技术,就轻松击败美国同行,进而称霸光刻机市场。

除了美日两大巨头,中国在光刻机制造领域,同样有着不俗的实力。

1985年,中科院45所研制出了分布式光刻机。

性能直逼当时在光刻机领域如日中天的,美国gca公司生产的4800dsw光刻机。

同全世界最先进光刻机的技术代差,不超过7年时间。

可惜,这台光刻机最终成为了中国光刻机产业的绝唱。

80年代,中国开始大规模引进外资。

用市场换技术,用空间换时间。

贸工技的路线,挤压了自主技术的成长。

许多国企纷纷转型,许多技术项目也纷纷停滞,乃至下马。

造不如买,买不如租的思想逐渐占据社会主流。

中科院45所的光刻机项目组,直接解散。

中国的光刻机产业,和国外的差距也变得越来越大。

当然,你也不能说当时中国的选择是错误的。

中国当时没钱,并且国内半导体产业对光刻机的需求非常小。

就算国内咬着牙坚持,结果也不会好上多少。

因为没有市场的产物,就算是坚持也很难获得足够回报。

不过中国光刻机项目的黯然下马,在客观上给了竹下雅人发展光刻机技术的机会。

日本国内有尼康和佳能两大巨头,就算竹下雅人想要进入,也很难获得相关方面人才。

所以青年准备和中国进行光刻机方面的合作。

自己这边出钱出设备,中国那边出人。

双方的合作,绝对可以在半导体行业闯出一片天。

20世纪打不赢尼康和佳能,但在中低端市场绝对可以和阿斯麦。

也就是日后如日中天的asml一较高下。

说起来,1984年才成立的阿斯麦,最初技术实力甚至不如中国。

因为阿斯麦,完全是飞利浦坑投资人的产物。

1984年,飞利浦研发出分布式光刻机,但完全是个半成品,有许多使用缺陷。

当时光刻机市场很小,所以飞利浦准备及时止损,卖掉光刻机项目。

结果在美国转了一圈,根本找不到买主。

这很正常,当时光刻机

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